WFA 래핑 파우더 F400 F600은 구리 디스크 래핑에 사용됩니다.

탁월한 연마 특성

백색 용융 알루미나는 고순도 알루미나를 2,000°C 이상의 고온에서 전기 아크로에서 용융시켜 생산되며, 탁월한 경도(모스 경도 9)와 화학적 순도를 지닌 결정질 소재입니다. 구리 디스크 래핑에는 F400 및 F600 그릿 크기가 특히 적합합니다. FEPA 표준에 따르면 F400은 평균 입자 크기가 약 35미크론이고, F600은 평균 약 16미크론입니다. 이러한 조합을 통해 2단계 래핑 공정이 가능합니다. 먼저 F400으로 빠른 재료 제거 및 평탄도 보정을 수행한 후, F600으로 미세 마무리를 하여 표면 손상을 최소화하면서 거울처럼 매끄러운 표면을 얻을 수 있습니다.

구리 가공에 적합하게 설계되었습니다.

구리의 본질적인 무른 성질은 정밀 가공에 상당한 어려움을 초래합니다. 기존 연마재는 종종 입자 박힘, 표면 번짐 또는 과도한 열 발생을 유발합니다. WFA 래핑 파우더는 고유한 특성 조합을 통해 이러한 한계를 극복합니다.

• 날카롭고 각진 입자 형태 : 블록형의 날카로운 모서리를 가진 입자는 제어된 절삭 작용을 제공하여 구리 표면을 긁거나 과도한 마찰열을 발생시키지 않고 효과적으로 재료를 제거합니다.

• 취성 : WFA 입자는 압력 하에서 파쇄되어 지속적으로 새로운 절삭면을 생성합니다. 이러한 자체 연마 특성은 공정 주기 전반에 걸쳐 일관된 래핑 성능을 보장합니다.

• 화학적 불활성 : WFA의 높은 순도는 구리 표면과의 화학 반응 위험을 최소화하여 후속 도금 또는 코팅 작업에 영향을 줄 수 있는 변색이나 오염을 방지합니다.

중요 응용 분야를 위한 정밀한 결과

구리 디스크는 반도체 제조부터 전자 제품 냉각 시스템 및 전력 전송에 이르기까지 다양한 산업 분야에서 필수적인 부품입니다. 이러한 응용 분야에서 요구되는 정밀한 표면 평탄도, 두께 균일성 및 낮은 표면 조도를 달성하려면 반복 가능한 결과를 제공할 수 있는 연마재가 필요합니다. WFA F400 및 F600 래핑 파우더는 다음과 같은 이점을 제공합니다.

• 정밀한 치수 제어 : 일관된 입자 크기 분포는 디스크 표면 전체에 걸쳐 균일한 재료 제거를 보장하여 평행도와 두께 공차를 마이크론 단위로 유지합니다.

• 탁월한 표면 마감 : F400에서 F600으로의 점진적인 개선을 통해 0.2 마이크론 미만의 표면 거칠기 값(Ra)을 달성하여 높은 열전도율 또는 광학 반사율이 요구되는 응용 분야에 적합합니다.

• 매끄러운 모서리 : 정밀하게 제어된 절삭 작용으로 모서리 말림 및 버 발생을 최소화하여 2차 가공 작업을 줄입니다.

지원 지침

구리 디스크에서 최적의 결과를 얻으려면 일반적으로 WFA 래핑 파우더를 오일 또는 수성 캐리어에 현탁시켜 주철 또는 세라믹 래핑 플레이트에 적용합니다. 압력, 회전 속도 및 슬러리 농도와 같은 공정 변수는 디스크 직경과 초기 표면 상태에 따라 최적화해야 합니다. WFA는 다양한 래핑 용매 조성과 호환되므로 절삭 효율과 표면 품질의 균형을 맞춘 맞춤형 솔루션을 제공할 수 있습니다.

대량 생산 환경이든 정밀 엔지니어링 작업장이든 관계없이, WFA 래핑 파우더(F400 및 F600 등급)는 최신 구리 디스크 래핑 응용 분야에서 요구되는 신뢰성, 일관성 및 탁월한 표면 품질을 제공합니다.